기업소개

Automatic Chemicals Analysis & Dosing Equipment

  • 제조사

    Ishihara Chemical (일본)

  • 공급사

    GTC

공정 분석의 자동화와 고도화

자동분석기는 PCB 공정 약품을 정밀하게 분석하여 농도를
자동으로 관리·보급하는 자동 분석 시스템으로, 공정 안정화와 품질 향상, 원가 절감에 기여합니다.

제품 스펙

  • 사이즈 (mm)

    420L X 420W X 1389H

  • 무게 (kg)

    35

시스템 개요
옵션 (optional function)
분석 방법

본 장비는 간헐 분석 · 연속 보급 방식을
적용하고 있습니다.

  • 분석 사이클
    시작

  • 샘플링

    Sampling

  • 분석

    Analysis

  • 보급량 계산

    Replenishment
    Calculation

  • 보급

    Replenishment

  • 세정 · 대기

    Cleaning &
    Standby

  • 분석 사이클 시작

    사용자가 설정한 주기에 따라
    자동 분석이 시작됩니다.

  • 샘플링

    자동으로 분석 샘플을
    채취합니다.

  • 분석

    채취된 용액을 화학적 원리에 따라
    유효 성분 농도를 정밀하게 분석합니다

  • 보급량 계산

    분석 결과값을 기준으로
    필요한 보급량을 자동으로 산출합니다.
    (성분 보급, 희석 보급 등 다양한 방식 적용 가능)

  • 보급

    산출된 보급량을 다음 분석 시점까지
    일정 시간에 나누어 자동으로 보급합니다.

  • 세정 · 대기

    비커 및 센서를 자동 세정한 후,
    설정된 다음 분석 시간까지 대기합니다.

약품자동분석기 제품 라인업
적용공정 CTQ 관리 분석 항목
화학동 (무전해) 도금 구리(Cu), 가성소다(NaOH), 포르말린(HCHO), 디메틸아민보란 (DMAB), Catalyst(Pd: Colloidal Type)
디스미어 공정 과망간산(MnO₄) , 망간산(MnO₄²), 가성소다(NaOH), 탄산나트륨(Na₂CO₃)
전기동 도금 (무기물 분석) 황산(H₂SO₄), 염소이온 (CI), 구리(Cu)
구리 · 염산 · 염소 관리 공정 구리(Cu, 300~1200ppm), 염산(HCI, 3~7%), 염소(CI, 25~55ppm)

*사양대표값: 설정에 따라 범위 조정 가능
ENIG & ENEPIG 공정 금(Au), 니켈 (Ni), Pd(촉매 & 도금용), pH
무전해 니켈 도금 니켈 (Ni), pH, 차아인산나트륨(NaH₂PO₂)
전해 금 도금 금(Au), 수소이온농도(pH)
전해 니켈 도금 설파민산니켈(Ni(NH₂SO₃)₂), 염화니켈(NiCl₂), 붕산(H₃BO₃), pH
현상 공정 탄산나트륨(Na₂CO₃), 가성소다(NaOH), 수산화칼륨(KOH), 탄산칼륨(K₂CO₃), 수지함량(Resin 함량분석)
에칭 공정 과산화수소(H₂O₂), 염화제이동(CuCl₂), 과황산나트륨(Na₂S₂O₈), 황산(H₂SO₄), 과황산암모늄((NH₄)₂S₂O₈), 염산(HCI), 구리(Cu)
블랙 옥사이드 공정 과황산칼륨(K₂S₂O₈) , 킬레이트제 (Chelating Agent), 아염소산나트륨(NaClO₂)
박리 공정 수산화칼륨(KOH), 가성소다(NaOH)
CZ 공정 구리(Cu), 음이온계 첨가제(Anion A)

※ 상기 약품 외에도 적용을 희망하는 약품이 있을 경우, 사전 테스트를 통해 적용 가능 여부를 검토할 수 있습니다.